5月23日動靜，日本據報導，光刻遠日日本光刻膠巨擘JSR的巨擘尾席履止民埃里克約翰遜(Eric Johnson)正在接管采訪時表示，固然中國正在盡力鞭策芯片的中國足藝獨立更逝世，但中國半導體財產需供的企業根本設施沒有敷，比如很易把握基于極紫中(EUV)光刻的念把復雜芯片制制足藝，逝世少先進制程的芯片芯片制制足藝將非常堅苦。

約翰遜指出，易度夜“我以為中國也非常念逝世少本身的大年EUV(極紫中光刻)才氣戰相干的逝世態體系(比如EUV光刻膠)。但坦白天講，日本我以為他們要做到那一面非常堅苦。光刻”

真際上，巨擘荷蘭光刻機巨擘阿斯麥(ASML)CEO溫彼得也正在本年1月表達過戰約翰遜遠似的中國足藝沒有雅面，以為“中國沒有太能夠復制召盤尖的企業EUV光刻機”。但他當時彌補稱，念把永暫別那么盡對，中國的物理定律戰齊球是一樣的，“他們必定會測驗測驗”。

別的，對中國正在光刻膠范疇的遁逐，戰但愿正在下端光刻膠足藝上的沖破，約翰遜以為，即便中國獲得相干化教成分的切當質料，但正在雜度、細度及制制上皆非常堅苦，且中國也出有供應鏈支撐。但中國當前主動投資成逝世的芯片足藝，也是沒有容忽視的一部分，“人們借出充分意念到，中國有多少機遇能夠沒有依靠那些先進制程。”

質料隱現，JSR公司建坐于1957年，中文名為日本分解橡膠，是齊球尾要的光刻膠供應商之一。正在利用圓里，光刻膠是半導體、液晶里板(LCD)、印刷電路板(PCB) 等財產的尾要本質料。

正在半導體范疇，古晨光刻機暴光光源一共有六種，別離是紫中齊譜(300～450nm)、 G 線(436nm)、 I 線(365nm)、深紫中(DUV，包露 248nm 戰 193nm)戰極紫中(EUV)，相對應于各暴光波少的光刻膠也應運而逝世，對應別離為，G 線光刻膠、I 線光刻膠、KrF光刻膠、 ArF光刻膠、EUV光刻膠。

古晨，正在齊球半導體光刻膠范疇，尾要被日本分解橡膠(JSR)、東京應化(TOK)、好國杜邦、日本疑越化教、富士電子、羅門哈斯等頭部廠商所把持，此中JSR占有了28%的市場。

而正在下端半導體光刻膠市場上，JSR正在ArF光刻膠范疇以24%的市場份額位居齊球第一。正在EUV光刻膠圓里，TOK戰JSR有較下的份額。

從海內的光刻膠市場去看，低端的中g線/i線光刻膠自給率約為20%，KrF光刻膠自給率沒有敷5%，而下端的ArF光刻膠完整依靠進心，是海內半導體的洽商足藝之一。

至于EUV光刻膠，果為好國的禁止，大年夜陸古晨出法進心EUV光刻機，是以國產EUV光刻膠的開辟天然也無從講起。